MADRID, 19 Oct. (Portaltic/EP) -
La compañía tecnológica Samsung ha anunciado que comienza el desarrollo de procesadores de 7 nanómetros (nm) Low Power Plus (LPP) a través de tecnología de litografía ultravioleta extrema (EUV), con la cual los chips semiconductores reducen un 50% el consumo de energía, mientras que aumentan la eficiencia de área un 40% y el rendimiento un 20%, en comparación con los anteriores procesadores de 10nm FinFET.
Después de finalizar con todo el proceso de desarrollo tecnológico requerido, la empresa surcoreana ha anunciado a través de una nota de prensa en su web de medios la incorporación de la tecnología EUV en la fabricación de procesadores de 7nm Low Power Plus de Samsung.
La tecnología ultravioleta EUV, según explica Samsung, utiliza una longitud de onda de 13,5nm sobre las la estructura de silicio del chip, lo cual sustituye al proceso tradicional de inmersión en floruro de argón, que, como ha explicado la compañía, solo alcanzan logitudes de onda de 193nm. EUV permite crear capas de obleas de silicio en una sola máscara, en comparación a las cuatro necesarias en el proceso con floruro de argón.
El procedimiento EUV reduce también el número de máscaras de silicio necesarias alrededor de un 20% frente a los procedimientos que no la usan. Con esto, los nuevos procesadores de 7nm LPP reducen hasta en un 50% el gasto energético, mientras que expanden el área de eficiencia hasta un 40% y el rendimiento un 20%, con respecto a los chips previos de 10nm con transistores 3D.
NUEVAS OPORTUNIDADES PARA LOS FABRICANTES
Samsung ha defendido que estos procesadores ofrecen a los consumidores oportunidades de fabricar productos que traspasen los límites en materias como las conexiones 5G, la Inteligencia Artificial, la gestión de centros de datos empresariales e hiperescalados, el Internet de las Cosas, la automoción y las redes en general.
El vicepresidente ejecutivo de Foundry Sales y Marketing en Samsung Electronics, Charlie Bae, ha comentado que este cambio en los procedimientos permite a los fabricantes "mejorar significativamente el tiempo de comercialización de sus productos con un rendimiento superior y capas reducidas".
La empresa ha afirmado estar preparada para la introducción de esta tecnología dentro del Ecosistema Avanzado de Fundición, un servicio de apoyo y colaboración para terceros asociados, con el objetivo de ofrecerles bases para que puedan fabricar sus diseños con 7nm LPP con EUV.
La investigación asociada a la litografía ultravioleta extrema comenzó a desarrollarse a principios de la década de los 2000, y la primera fabricación de chips que usan esta tecnología ha comenzado en las instalaciones S3 Fab de Samsung en Hwaseong (Corea del Sur). La empresa espera asegurar una línea basada en esta tecnología destinada a clientes para 2020.
