TEL AVIV 18 Ene. (Reuters/EP) -
El fabricante de chips estadounidense Intel invertirá 2.016 millones de euros (2.700 millones de dólares) en los próximos dos años en la modernización de su planta de chips en el sur de Israel, para producir tecnología de 22 nanómetros.
La cifra incluye una subvención de 156 millones de euros (210 millones de dólares) aprobada recientemente por el Gobierno israelí.
"Ya estamos preparándonos para contratar", dijo Maxine Fassberg, director general de Intel Israel, en una rueda de prensa. "Tenemos previsto empezar la producción en diciembre".
Fassberg dijo que la planta israelí en Kiryat Gat será la segunda de Intel en todo el mundo en producir los chips más pequeños de 22 nanómetros.
Intel Israel, que emplea a 7.057 personas, contratará a 1.000 personas en el próximo año. "No hay planes de levantar una nueva planta (en Israel)", dijo Fassberg.
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